u 利用光學(xué)投影的原理將被測(cè)的沖擊試樣U型和V型缺口與投影儀上的標(biāo)準(zhǔn)板圖進(jìn)行對(duì)比以確定被檢測(cè)的沖擊試樣加工是否合格，該設(shè)備操作簡(jiǎn)便，檢查對(duì)比直觀、效率高，是沖擊試樣加工過(guò)程中必備的檢測(cè)設(shè)備。